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“顶立科技VCVD-SIC立式化学气相沉积炉（碳化硅）”参数说明
| 是否有现货： | 否 | 认证： | ISO9001：2008 |
| 加工定制： | 是 | 品牌： | 顶立科技 |
| 类型： | 气相沉积炉 | 别名： | 立式化学气相沉积炉（碳化硅） |
| 适用范围： | 用于以硅烷为气源的材料表面抗氧化涂层、基 | 炉膛最高温度： | 1500 |
| 工作温度： | 1400 | 装载量： | 可定制 |
| 外形尺寸： | 可定制 | 型号： | VCVD-SIC |
| 规格： | 可定制 | 商标： | 顶立科技 |
| 包装： | 木箱等 | 产量： | 10 |
“顶立科技VCVD-SIC立式化学气相沉积炉（碳化硅）”详细介绍
基本介绍
该立式化学气相沉积炉可用于以硅烷为气源的材料表面抗氧化涂层、基体改性等。
技术特征
采用先进的控制技术，能精密控制MTS的流量和压力，炉膛内沉积气流稳定，压力波动范围小；
采用特殊结构沉积室，密封效果好，抗污染能力强；
采用多通道沉积气路，流场均匀，无沉积死角，沉积效果好；
对沉积产生的高腐蚀性尾气、易燃易爆气体、固体粉尘及低熔点粘性产物能进行有效处理；
采用最新设计防腐蚀真空机组，持续工作时间长，维修率极低。
主要配置
炉壳：全碳钢/内层不锈钢/全不锈钢
炉胆：软碳毡/软石墨毡/硬质复合毡/CFC
加热器、马弗：等静压石墨/模压三高石墨/细颗粒石墨
工艺气路系统：体积/质量流量计；手动阀/自动阀；进口/国产
真空泵和真空计：进口/国产
PLC：欧姆龙/西门子
控温仪表：日本岛电/英国欧陆
热电偶：C分度号/S分度号/K分度号/B分度号
记录仪：无纸记录仪/有纸记录仪；进口/国产
人机界面：模拟屏/触摸屏/工控机
电器元件：正泰/施耐德/西门子
产品规格
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参数\型号 |
VCVD-0305-SIC |
VCVD-0608-SIC |
VCVD-0812-SIC |
VCVD-1015-SIC |
VCVD-1120-SIC |
VCVD-1520-SIC |
|
工作区尺寸D×H（mm） |
Φ300×500 |
Φ600×800 |
Φ800×1200 |
Φ1000×1500 |
Φ1100×2000 |
Φ1500×2000 |
|
最高温度（℃） |
1500 |
1500 |
1500 |
1500 |
1500 |
1500 |
|
温度均匀性（℃） |
±5 |
±5 |
±7.5 |
±7.5 |
±10 |
±10 |
|
极限真空度（Pa） |
50 |
50 |
50 |
50 |
50 |
50 |
|
压升率（Pa/h） |
0.67 |
0.67 |
0.67 |
0.67 |
0.67 |
0.67 |
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以上立式化学气相沉积炉（碳化硅）参数可根据工艺要求进行调整，不作为验收依据，具体以技术方案和协议为准。 |
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采购须知
联系方式 电话：18874256050（羊经理） 地址：湖南省长沙市暮云经济开发区顶立科技园